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"Wall Dress" convierte planos arquitectónicos en patrones de moda

'Wall Dress' convierte planos arquitectónicos en patrones de moda
Viernes, 08 de septiembre 2017

Para la presentación de "Wall Dress", el proyecto ganador de Samsung EGO Innovation Project, siete planos arquitectónicos flotantes sobre la pasarela se deslizarán delicadamente sobre las modelos convirtiéndose así en patrones de moda.

Samsung EGO Innovation Project, el certamen que une moda y tecnología, ha nombrado ganadora de su octava edición a la firma ZAP & BUJ por su proyecto Wall Dress. Se trata de una interesante propuesta que convierte planos arquitectónicos en patrones de moda. Este proyecto, que verá la luz el próximo 19 de septiembre sobre la pasarela Samsung EGO, es obra de las arquitectas Elena Zapico y Raquel Buj.

Wall Dress presenta una serie de paneles arquitectónicos en forma de muros o veladuras que se convierten en vestidos a través de la tecnología y el uso de tejidos y materiales con memoria de forma (MSP y MSA). La firma propone un proyecto en el que han trabajado dentro del campo de la creación y fabricación digital de nuevas pieles: materiales que se adaptan a la forma del cuerpo al recibir un estímulo de calor. Para el desarrollo de la parte tecnológica de la propuesta, ZAP & BUJ ha colaborado con Aitex (centro de investigación, innovación y servicios técnicos avanzados para el sector textil) y el Instituto de Ciencia y Tecnología de Polímeros del CSIC.

Samsung EGO Innovation Project ha premiado a la firma ZAP & BUJ con una dotación económica de 10.000€ para el desarrollo de su proyecto.


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